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产品详情
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RF射频电源
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PECVD系统,它由管式炉,石英真空室、真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。主要使用于:金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能。该PECVD系统具有: 薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。

RF射频电源主要技术参数:

功率输出范围

 0-500W

最大反射功率

200W

工作频率

射频:13.56MHZ±0.005%

功率稳定度

+/-0.1%

谐波分量

≤-50dbc

射频区域宽度

0-600mm 可调

匹配方式

自动

冷却方式

分冷

噪声

<50dB

射频接口

50Ω   N-type

输入电源

208-240V  50/60HZ